日期:[2023年09月01日]
-- 智慧生活报 --
版次:[A14]
中电科风华Mars4410SiC晶圆缺陷检测工艺设备受青睐
本报讯 （记者王盼盼）8月24—25日，山西综改示范区入区企业中电科风华公司携新产品Mars 4410 SiC晶圆缺陷检测工艺设备亮相CSIF2023第三代半导体材料制造与装备技术高峰论坛。
Mars 4410 是碳化硅器件产线中的关键装备，用于对碳化硅衬底片、外延片、腐蚀片的缺陷检测。Mars 4410 SiC晶圆缺陷检测工艺设备采用差分干涉相衬、光致发光、暗场等多种检测手段，可实现晶圆检测与数据分析并行处理，晶圆缺陷与器件失效相关联，具有低噪声和高分辨率成像、高检测通量、高检出率和准确性等优势，能满足提升SiC 器件良率的需求。
Mars4410 SiC晶圆缺陷检测设备研制成功，是我国在第三代半导体高端装备自主化、国产化征程上的一次重大突破。
Mars 4410 是碳化硅器件产线中的关键装备，用于对碳化硅衬底片、外延片、腐蚀片的缺陷检测。Mars 4410 SiC晶圆缺陷检测工艺设备采用差分干涉相衬、光致发光、暗场等多种检测手段，可实现晶圆检测与数据分析并行处理，晶圆缺陷与器件失效相关联，具有低噪声和高分辨率成像、高检测通量、高检出率和准确性等优势，能满足提升SiC 器件良率的需求。
Mars4410 SiC晶圆缺陷检测设备研制成功，是我国在第三代半导体高端装备自主化、国产化征程上的一次重大突破。
